
RealDrop®TrueDrop®表面清洁度测量仪
- 更新时间:2025-02-25
- 产品型号:LCD1000
- 厂商性质:生产厂家
- 产品品牌:KINO
- 产品厂地:上海市
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产品介绍
美国科诺(KINO Scientific)推出的 LCD系列表面清洁度分析仪,专为电子制造与材料科学领域设计,通过精确量化液滴在液晶屏、晶圆、芯片及PCB表面的接触角,实现对等离子体(Plasma)处理效果、表面能分布及清洁度的科学评估。本系统基于界面化学分析原理,结合高分辨率光学成像与智能算法,为表面处理工艺优化提供关键数据支持。
RealDrop®TrueDrop®表面清洁度测量仪LCD1000核心组成与技术特性
模块化硬件设计
主机配置:可选自动(LCD1000A)或手动(LCD1000M)样品台,支持行程定制(最大兼容φ300mm晶圆),适配半导体、微电子及显示面板行业需求。
光学系统:远心镜头(0.7-4.5×变焦)与平行冷光源协同工作,接触角测量精度±0.1°,重复性误差在≤0.5°。
CAST2.0®专业分析平台
集成Young-Laplace方程拟合与动态接触角追踪技术,支持等离子体处理后表面亲水性变化的量化分析。
一键生成清洁度评估报告,满足质量控制(QC)与研发验证需求。
RealDrop®TrueDrop®表面清洁度测量仪LCD1000应用场景与附加值
工艺优化:精准评估等离子体处理、UV/O₃清洗等工艺对表面自由能的影响,指导参数调优。
缺陷检测:识别晶圆镀膜不均、PCB焊盘污染等微观缺陷,提升产品良率。
研发验证:为超疏水涂层、抗指纹玻璃等新材料开发提供润湿性数据支撑。
服务与定制化方案
提供样品台尺寸、控温模块(-20℃~200℃)及真空环境腔室等定制选项,适配特殊实验条件。
科诺专业技术团队支持全生命周期服务,包括方法开发、数据解读与合规性指导。
科学定义表面品质,驱动精密制造升级
LCD系列——以数据赋能表面处理工艺的每一次进步。
应用场景与附加值
工艺优化:精准评估等离子体处理、UV/O₃清洗等工艺对表面自由能的影响,指导参数调优。
缺陷检测:识别晶圆镀膜不均、PCB焊盘污染等微观缺陷,提升产品良率。
研发验证:为超疏水涂层、抗指纹玻璃等新材料开发提供润湿性数据支撑。
功能实现与技术流程
一、定位与运动控制
测试前准备
控制注射泵沿XY轴平移至安全区(避让距离可预设),确保装样操作无机械干涉。
通过XYZ三轴精密导轨调节进样器与镜头空间位置,结合俯仰角度微调(±0.1°),实现亚像素级成像清晰度。
镜头升降(Z轴)行程范围0-50mm,分辨率10μm,适配5mm至300mm样品厚度。
光学对焦校准
样品台避让模式
动态测试控制
Z轴闭环控制液滴释放高度,配合PTFE超疏水针头(内径0.1mm),液滴体积控制精度0.02μL(CV≤1.5%)。
XY轴自动定位(重复精度±2μm),支持10×10网格化采样,单次测试覆盖面积100×100mm。
多点位扫描
液滴精准转移
二、液滴形态分析与计算
图像捕获与预处理
采用300万像素CMOS相机(87-340 fps)捕捉液滴轮廓,内置UV滤波片消除环境光干扰。
实时边缘增强算法提升液-固-气三相线识别精度至亚像素级(±0.1像素)。
接触角计算模型
内置倾角传感器数据融合算法,自动校正镜头俯仰偏差(0-15°),补偿后角度误差在≤0.2°。
通过非线性最小二乘法拟合Young-Laplace方程,适配疏水表面(θ>90°)及非对称液滴,理论吻合度R²>0.995。
基于液滴宽高比快速计算静态接触角,适用于亲水表面(θ<90°),计算误差在≤0.5°。
θ/2法(WH法)
椭圆拟合法
俯视角度补偿
三、质量控制与标准化
数据可追溯性
每帧图像附带接触角值、拟合曲线等元数据,符合ISO数据完整性要求。
动态过程监控
支持液滴铺展/回缩过程录像(AVI格式),帧率与接触角变化曲线同步标记,便于工艺失效分析。
技术优势总结
精密运动:六轴联动控制,定位精度达微米级
智能算法:双模型自适应计算,覆盖5°-175°接触角范围
合规设计:数据采集与报告格式符合ASTM标准
特别声明:
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CAST®、阿莎®、ADSA®、TrueDrop®、RealDrop®、TheDrop®、MicroDrop®、LMCA®、Shsolon®、梭伦®为上海梭伦注册商标。
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